Высокоочищенные мишени
для магнетронного напыления
Стандартные мишени
Высокоочищенные мишени для процессов PVD и магнетронного напыления.
Поставляем мишени из металлов, сплавов и керамики для производства полупроводников,
оптических покрытий и функциональных плёнок. Вся продукция сертифицирована,
соответствует отраслевым стандартам и готова к интеграции в ваши технологические линии.
Специализированные и перспективные мишени
Мишени диаметром 300 мм
ULVAC Al₂O₃ Target
мишень из оксида алюминия
AMAT WSi Target
мишень из силицида вольфрама
AMAT AlSiMg Target
мишень из сплава Al-Si-Mg
Мишени AlSc диаметром 200 мм
6 ат.%
8 ат.%
8.23 ат.%
9.5 ат.%
15 ат.%
20 ат.%
30 ат.%
40 ат.%
Классификация мишеней для PVD-напыления
Высокоочищенные металлические мишени:
Высокоочищенные металлические мишени:
| | Получить коммерческое предложение |